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真空等離子體處理工藝,影響清洗效率的參數(shù)

更新時(shí)間:2021-11-15      點(diǎn)擊次數(shù):2006
  在等離子體清洗工藝當(dāng)中,影響清洗效率的參數(shù)主要有以下幾個(gè)方面:
  (1)放電氣壓(真空度):對(duì)于低壓等離子體,放電氣壓增加,等離子體密度越高,電子溫度隨之降低。而等離子體的清洗效果取決于其密度和電子溫度兩個(gè)方面,如密度越高清洗速率越快、電子溫度越高清洗效果越好。因此,放電氣壓的選擇對(duì)低壓等離子體清洗工藝至關(guān)重要。
 ?。?)氣體種類:待處理物件的基材及其表面污染物具有多樣性,而不同氣體放電所產(chǎn)生的等離子體清洗速度和清洗效果又相差甚遠(yuǎn)。因此應(yīng)該有針對(duì)性地選擇等離子體的工作氣體,如可選用氧氣等離子體去除物體表面的的油脂污垢,選用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層
 ?。?)放電功率:放電功率增大,可以增加等離子體密度和活性粒子能量,因而提高清洗效果。例如,氧氣等離子體的密度受放電功率的影響較大。
 ?。?)暴露時(shí)間:待清洗材料在等離子體中的暴露時(shí)間對(duì)其表面清洗效果及等離子體工作效率有很大影響。暴露時(shí)間越長清洗效果相對(duì)越好,但工作效率降低。并且,過長時(shí)間的清洗可能會(huì)對(duì)材料表面產(chǎn)生損傷。
 ?。?)其他:等離子體清洗工藝中的氣體分配、氣體流量、電極設(shè)置等參數(shù)也會(huì)影響清洗效果。因此需要根據(jù)實(shí)際情況和清洗要求設(shè)定具體的、適合的工藝參數(shù)
  在實(shí)際的工作中,選擇合適的工藝參數(shù)至關(guān)重要,需要將各種影響因素綜合考量和運(yùn)用。不能簡單的將參數(shù)獨(dú)立使用。

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